CVD、スパッタ、蒸着などの成膜装置から大気圧プラズマ、加熱/乾燥炉など真空/大気圧問わず実験装置から生産装置まで、お客様の要望に合わせて装置を設計、製造致します。
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CVD法の一種であるプラズマCVD法によりDLC膜を生成します。a-SiCやSiOxといったSi系膜の作成も可能です。
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